光刻机

    ¥:170000.00

    鑫有研电子科技(上海)有限公司

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    光刻机

    型号:17


     


    1、采用多反射镜实现均匀照明;   
    2
    、采用球气浮找平,调平精度高;      
    3
    、高倍率双目双视场显微镜和19英寸宽屏液晶显示同时观察对准过程,

    并提供USB输出;既满足高精度对准,又可用于检测曝光结果,且曝光

    结果和方便存储;    
    4
    、曝光波长采用纯净365nm,冷光照明(曝光面能量5mW/cm ,温度小于35度)       
    5
    、手动上下版、样片,手动调平;手动分离间隙。       
    6
    、快门可以单独开启,也可以数字设定自动xxx曝光(设定范围0.1s-9999s       
    7
    、采用200W进口(德国)直流汞灯,可调节光的能量密度;设备外形美观精制

    性能非常可靠

     

    二、主要技术指标: 
    1
    、曝光面积:ф100mm 
    2
    、分辨力:  1.7µm(胶厚2 µm的正胶); 
    3
    、对准精度:  ±1µm;   
    4
    、掩模样片整体运动范围:X6mm;Y:6mm 
    5
    、掩模尺寸:2.5 inch3 inch4 inch5 inch 
    6
    、样片尺寸:直径ф15mm-- ф100mm 
            厚度0.1mm--6mm(可扩展为15mm) 
    7
    、照明均匀性:±6%ф100mm 范围); 
    8
    、掩模相对于样片运动行程:X: ±5mm;  Y: ±5mm; θ: ±6° 
    9
    、汞灯功率:200W(直流);
    10
    、曝光波长:365nml      
    11
    、曝光能量密度:6mW/cm (420nm以上波长小于0.2mW/cm )l     
    12
    、曝光方式:定时(到计时方式)
    13
    、外形尺寸:650mm(长)´600mm()´900mm(高)

     

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