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    什么是E光技术

    E光技术是光能和射频能量的xx组合,相互协同作用。核心技术主要有三点:射频+光能+表皮冷却系统.利用皮肤对光能的选择性吸收引起靶组织和正常皮肤的阻抗差异,在光能强度较低的情况下强化靶组织对射频能量的吸收,极大的xx了光能过强的热作用可能引起的副反应,并且提高了顾客的舒适度,传统IPL设备xx深度只达皮下4mm,依靠E光技术,渗透可达皮肤15mm,同时xx范围大幅度提高.

    射频:利用高频电磁波---射频:产生的热传导作用,xx直达皮肤深层。利用皮肤的阻抗来产生能量;使细胞分子产生强烈的共振旋转(800百万次/秒的数量级)产生热能,使皮肤底层的温度瞬间升高,作用深度可达皮肤以下15 mm。

    光能:E光是经过纳米滤波技术,滤除对人体有害成份的光谱,使用530nm-1200nm的大范围xx光谱,赋予其一定能量和强度释放强脉冲光,输出的光平稳、均衡、持久热累计时间长。其中短波长用于xx血管性病变和色素性病变,实现美白嫩肤功能。长波段的光主要用于脱毛。

    表皮冷却系统:采用国内{zxj}的半导体制冷技术,表皮接触式制冷,有效避免了光能和射频能量的热对皮肤的损伤,并且增加了表皮的阻抗使xx过程更加安全、舒适。

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