光学微电子净化工程亦名无尘室或清净室，目前已是半导体、精密制造、液晶制造、光学制造、线路板制造和生物化学、医药、食品制造等行业不可或缺的重要设施。近几年来，由于技术之创新发展，对于产品的高精密度化、细小型化之需求更为迫切，如超大型积体电路之研究制造，已成为世界各国在科技发展上极为重视的项目，而我公司的设计理念及施工技术在行业中则处于{lx1}地位。
光学微电子净化工程一般包括：
1、 洁净生产区
2、 洁净辅助间（包括人员净化用房、物料净化用室和部分生活用室等）
3、 管理区（包括办公、值班、管理和休息等）
4、 设备区（包括净化空调系统应用、电气用房、高纯水和高纯气用房、冷热设备用房）
光学微电子净化工程净化原理
气流→初效净化→空调→中效净化→风机送风→管道→{gx}净化风口→吹入房间→带走尘埃xx
等颗粒 → 回风百叶窗→初效净化 重复以上过程，即可达到净化目的。
光学微电子净化工程净化参数
换气次数：100000级≥15次；10000级≥20次；1000≥30次。压差：主车间对相邻房间≥5Pa
平均风速：10级、100级0.3－0.5m/s；温度 冬季＞16℃；夏季 ＜26℃；波动±2℃。
温度45－65％；GMP粉剂车间湿度在50％左右为宜；电子车间湿度略高以免产生静电。
噪声≤65dB（A）；新风补充量是总送风量的10％－30％；照度300LX。
公 司：无锡易纯净化设备有限公司
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