混床设备 应用范围概述：
电解电容器生产铝箔及工作件的清洗 ，电子管生产、电子管阴极涂敷碳酸盐配液， 显像管和阴极射线管生产配料用纯水，黑白显像管荧光屏生产玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水， 液晶显示器的生产，屏面需用纯水清洗和用纯水配液，晶体管生产中主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制集成电路生产中高纯水清洗硅片等.
混床设备典型工艺流程
预处理系统－反渗透系统－中间水箱－粗混合床－精混合床－纯水箱－纯水泵－紫外线xx器－抛光混床－精密过滤器－用水对象 （≥18MΩ.CM）
预处理－反渗透－中间水箱－水泵－EDI装置－纯化水箱－纯水泵－紫外线xx器－抛光混床－0.2或0.5μm精密过滤器－用水对象（≥18MΩ.CM）
预处理－一级反渗透－加药机（PH调节）－中间水箱－第二级反渗透（正电荷反渗膜）－纯水箱－纯水泵－EDI装置－紫外线xx器－0.2或0.5μm精密过滤器－用水对象（≥17MΩ.CM）
预处理－反渗透－中间水箱－水泵－EDI装置－纯水箱－纯水泵－紫外线xx器－0.2或0.5μm精密过滤器－用水对象（≥15MΩ.CM）
处理系统－反渗透系统－中间水箱－纯水泵－粗混合床－精混合床－紫外线xx器－精密过滤器－用水对象（≥15MΩ.CM）
行业标准
纯化水标准，注射水标准 显像管、液晶显示器用纯水水质
集成电路用纯水水质
国家电子级纯水标准
美国SEMI标准
特点
为满足用户需要，符合生产用水标准，延长设备的使用寿命、降低操作人员的维护工作量.在工艺设计上，采用国家自来水标准水为源水，再设有多介质过滤器、活性碳过滤器、钠离子软化器、精密过滤器、阻垢等预处理系统、RO反渗透主机系统、离子交换混床（EDI电除盐系统）系统等。 系统中水箱均设有液位控制系统、水泵均设有压力保护装置、在线水质监测控制仪表、电气采用PLC可编程控制器，全自动运行无须人员看守，同时在工艺选材上采用推荐和客户要求相统一的方法，使设备与其它同类产品相比较，具有更高的xxx和设备可靠性。
