气氛炉/箱式气氛炉供应
HMF1700系列真空气氛炉是本公司新开发的一种高温箱式炉，使用1700℃硅钼棒作为加热元件。广泛用于材料或化学实验室在真空或气氛状态下烧结各种新材料样品，温度控制采用高精度控温仪能控制到精度+/-1 ℃并且可以30段程序控温，{zg}温度1620℃.
工作温度：室温~1800℃（自由选择）
加热元件：电阻丝/硅碳棒/硅钼棒/钼丝
炉壳结构：双层壳体结构
炉膛材质：进口高纯氧化铝多晶体纤维
炉门结构：侧开门
炉膛结构：圆形/方形
炉膛尺寸：1L~500L(自由选配）
温控系统：PID调节、自整定功能，并可编制30段升降温程序
测温方式：热电偶
控温精度：±1.0℃
升温速率：推荐≤5℃/min，最快升温速率≤10℃/min
可通气氛：氢气、氮气、氩气等多种气体
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