磁控溅射Ir铱颗粒

东莞市鼎伟靶材有限公司是专业生产纯属材料，蒸镀膜材料以及溅射靶材的技术企业应用的科技型民营股份制工贸有限公司。公司以青岛大学和青岛科技大学蒸材料专业为技术依托，拥有多名中级专业技术人员和专业化应用实验室，有很强的蒸材料能力。公司先后研的蒸材料、溅射靶材系列产品广泛应用到国内外众多知名子、太阳能企业当中，以较的价比，成功替代了国外进口产品，颇受用户好评。

磁控溅射Ir铱颗粒

公司主要经营产品： 

一、真空镀膜材料 

1．纯真空溅射靶材（99.9％——99.999％）

纯属靶材：锆靶Zr、铬靶Cr、钛靶Ti、铝靶Al、锡靶Sn、钒靶V、锑靶Sb、铟靶、硼靶B、钨靶W、锰靶Mn、铋靶Bi、铜靶Cu、石墨靶C、硅靶 Si、钽靶 Ta、锌靶Zn、镁靶Mg、铌靶Nb、钼靶Mo、钴靶Co、铁靶Fe、锗靶Ge、铪靶Hf、铅靶Pb、镍靶Ni、银靶Ag、硒靶Se、铍靶Be、碲靶Te、不锈钢靶材S.S等……

多元合靶材： 钛铝靶Ti-Al、钛锆靶Ti-Zr、钛硅靶Ti-Si、钛镍靶Ti-Ni、镍铬靶Ni-Gr、镍铝靶Ni-Al、镍钒靶Ni-V、镍铁靶Ni-Fe、铁钴靶Fe-Co、铝硅靶Al-Si、钛硅靶Ti-Si、铬硅靶Cr-Si、锌铝靶Zn-Al、钛锌靶材Ti-Zn、铝硅铜靶Al-Si-Cu等……

陶瓷溅射靶材：ITO靶、单晶硅靶、多晶硅靶、一氧化硅靶SiO、二氧化硅靶SiO2、二氧化钛靶TiO2、氧化锆靶ZrO2、二硼化钛靶TiB2、氧化镁靶MgO、碳化硼靶BC、氮化硼靶BN、碳化硅靶SiC、三氧化二钇靶Y2O3、五氧化二钒靶V2O5、氧化锌靶ZnO、硫化锌靶ZnS、硫化钼靶MoS、硫化钨靶WS、氧化锌铝靶ZAO、氧化铝靶Al2O3、钛酸锶靶SrTiO3、五氧化二钽靶Ta2O5、五氧化二铌靶Nb2O5、氧化锌镓靶ZGO、氧化锌硼靶ZBO、砷化镓靶GaAs，磷化镓靶GaP，硒化锌靶、锰酸锂靶、镍钴酸锂靶、钽酸锂靶，铌酸锂靶、等… 

稀土属靶：镧靶、铈靶、镨靶、钕靶、钐靶、铕靶、钆靶、铽靶、镝靶、钬靶、铒靶、铥靶、镱靶、镥靶、钇靶等… 

稀土氧化物靶：氧化镧靶、氧化铈靶、氧化镨靶、氧化钐靶、氧化铕靶、氧化钕靶、氧化钆靶、氧化铽靶、氧化镝靶、氧化钬靶、氧化铒靶、氧化铥靶、氧化镱靶、氧化镥靶 

属膜阻器用Ni-Cr-Si/ Ni-Cr-Mn-Cu溅射靶材：

属膜阻器用靶材括阻系列（ZYG）、中阻系列（ZYZ）和低阻系列（ZYC）、超低阻系列（ZYCD）。

2．纯光学镀膜材料（99.99％——99.999％）

氧化物：一氧化硅、二氧化硅、一氧化钛、二氧化钛、三氧化二钛、五氧化三钛、二氧化锆、二氧化铪、二氧化铈、二钛酸镨、三氧化钨、五氧化二钽、五氧化二铌、三氧化二钪、三氧化二铝、三氧化二铟、氧化镱、氧化锌、氧化镁、氧化钆、氧化钐、氧化钕、氧化钙、氧化镨、氧化铋、氧化铬、氧化镍、氧化铜、氧化铁、氧化钒等… 

氟化物：氟化镁、氟化钙、氟化钕、氟化镧、氟化镱、氟化钇、氟化铒、氟化钐、氟化镝、氟化铈、氟化钡、氟化锶、氟化钾、氟化钠等… 

硫化物：硫化锌、硫化钼、硫化钙、硫化锑、硫化铁、硫化钠等…

铱铼合靶材

Ir-Re

99.9%

圆片靶， 矩形靶，圆柱靶，台阶靶，图纸加工

铟锡合靶材

In-Sn

99.99%

圆片靶， 矩形靶，圆柱靶，台阶靶，图纸加工

钼硅合靶材

Mo-Si

99.5%

圆片靶， 矩形靶，圆柱靶，台阶靶，图纸加工

钼铌合靶材T18937853784(不是联系方式)

Mo-Nb

99.95%

圆片靶， 矩形靶，圆柱靶，台阶靶，图纸加工

镍铝合靶材

Ni-Al

99.9%

圆片靶， 矩形靶，圆柱靶，台阶靶，图纸加工

镍铬合靶材

Ni-Cr

99.95%

圆片靶， 矩形靶，圆柱靶，台阶靶，图纸加工

镍铬硅合靶材

Ni-Cr-Si

99.95%

圆片靶， 矩形靶，圆柱靶，台阶靶，图纸加工

镍铁合靶材

Ni-Fe

99.9%

圆片靶， 矩形靶，圆柱靶，台阶靶，图纸加工

镍铌钛合靶材

Ni-Nb-Ti

99.9%

圆片靶， 矩形靶，圆柱靶，台阶靶，图纸加工

镍钛合靶材

Ni-Ti

99.95%

圆片靶， 矩形靶，圆柱靶，台阶靶，图纸加工

镍钒合靶材

Ni-V

99.9%

圆片靶， 矩形靶，圆柱靶，台阶靶，图纸加工

钐钴合靶材

Sm-Co

99.9%

圆片靶， 矩形靶，圆柱靶，台阶靶，图纸加工

银铜合靶材

Ag-Cu

99.99%

圆片靶， 矩形靶，圆柱靶，台阶靶，图纸加工

银锡合靶材

Ag-Sn

99.99%

圆片靶， 矩形靶，圆柱靶，台阶靶，图纸加工

钽铝合靶材

Ta-Al

99.9%

圆片靶， 矩形靶，圆柱靶，台阶靶，图纸加工

铽镝铁合靶材

Tb-Dy-Fe

圆片靶， 矩形靶，圆柱靶，台阶靶，图纸加工

半导体领域应用靶材是靶材市场的主要组 成之一。在1991年的靶材市场销售额中，有约’"60%为半导体领域应用靶材，35%用于记录介质领 域，5%为显示领域用靶材及其他。近年来，半导体领域应用靶材以近10%的年长率长［ 在硅片制成各种晶体管、二极管等元器件后，根据路设计要求，将这些元器件用属薄膜线条连接起来，形成有各种功能的集成路的工艺称为属化。属化工艺是硅集成路制造工艺中非常重要的环节。属化系统和属化工艺的优劣 会影响路的能和可靠。

【原创内容】
直接影响真空度获得和加成膜失败的可能。短路或靶材起弧，成膜表面粗糙及化学杂质含量超标经常是由于不洁净的溅射室、溅射枪和靶材引起的。为保持镀膜的成分特，溅射导致在溅射过程中热量无法散最终会造成靶材裂或脱靶为确保足够的导热，可以在极冷却壁与靶材之间加垫一层石墨纸。请意一定要仔细检查和明确所使用溅射枪冷却壁的我们现有需要维修的地方会书面通知户并提供维修报价三、装和运输所有已贴合靶材装在真空密封塑料袋中，并附有防潮剂。外装一般为木箱，四周有防撞层，以保护靶材的保护手套，{jd1}避免用手直接接触靶材二、靶材清洁靶材清洁的目的是去除靶材表面可能存在的灰尘或污垢。属靶材可以通过四步清洁，{dy}步用在中浸泡过的无绒软布清洁；提供的已使用过的背靶后，我们会首先进行卸靶处理（如适用）并且对背靶进行xx检查，检查的重点括背靶的平整度，完整及密封等。我们会通知用户对背靶的检查结果，如溅射工艺进行过程中靶表面溅射沟区域内出现被反应生成物覆盖或反应生成物被剥离而重暴露属表面此消彼长的过程。如果化合物的生成速率大于化合物被剥离的速率，化合提供的已使用过的背靶后，我们会首先进行卸靶处理（如适用）并且对背靶进行xx检查，检查的重点括背靶的平整度，完整及密封等。我们会通知用户对背靶的检查结果，如的保护手套，{jd1}避免用手直接接触靶材二、靶材清洁靶材清洁的目的是去除靶材表面可能存在的灰尘或污垢。属靶材可以通过四步清洁，{dy}步用在中浸泡过的无绒软布清洁；