贵金属靶材回收

东莞市鼎伟靶材有限公司是专业生产纯属材料，蒸镀膜材料以及溅射靶材的技术企业应用的科技型民营股份制工贸有限公司。公司以青岛大学和青岛科技大学蒸材料专业为技术依托，拥有多名中级专业技术人员和专业化应用实验室，有很强的蒸材料能力。公司先后研的蒸材料、溅射靶材系列产品广泛应用到国内外众多知名子、太阳能企业当中，以较的价比，成功替代了国外进口产品，颇受用户好评。

贵属靶材回收

东莞市鼎伟靶材有限公司

联系人：肖先生

手机：18681059472           

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地址：东莞市南城区民间融大厦

公司主要经营产品： 

一、真空镀膜材料 

1．纯真空溅射靶材（99.9％——99.999％）

纯属靶材：锆靶Zr、铬靶Cr、钛靶Ti、铝靶Al、锡靶Sn、钒靶V、锑靶Sb、铟靶、硼靶B、钨靶W、锰靶Mn、铋靶Bi、铜靶Cu、石墨靶C、硅靶 Si、钽靶 Ta、锌靶Zn、镁靶Mg、铌靶Nb、钼靶Mo、钴靶Co、铁靶Fe、锗靶Ge、铪靶Hf、铅靶Pb、镍靶Ni、银靶Ag、硒靶Se、铍靶Be、碲靶Te、不锈钢靶材S.S等……

多元合靶材： 钛铝靶Ti-Al、钛锆靶Ti-Zr、钛硅靶Ti-Si、钛镍靶Ti-Ni、镍铬靶Ni-Gr、镍铝靶Ni-Al、镍钒靶Ni-V、镍铁靶Ni-Fe、铁钴靶Fe-Co、铝硅靶Al-Si、钛硅靶Ti-Si、铬硅靶Cr-Si、锌铝靶Zn-Al、钛锌靶材Ti-Zn、铝硅铜靶Al-Si-Cu等……

陶瓷溅射靶材：ITO靶、单晶硅靶、多晶硅靶、一氧化硅靶SiO、二氧化硅靶SiO2、二氧化钛靶TiO2、氧化锆靶ZrO2、二硼化钛靶TiB2、氧化镁靶MgO、碳化硼靶BC、氮化硼靶BN、碳化硅靶SiC、三氧化二钇靶Y2O3、五氧化二钒靶V2O5、氧化锌靶ZnO、硫化锌靶ZnS、硫化钼靶MoS、硫化钨靶WS、氧化锌铝靶ZAO、氧化铝靶Al2O3、钛酸锶靶SrTiO3、五氧化二钽靶Ta2O5、五氧化二铌靶Nb2O5、氧化锌镓靶ZGO、氧化锌硼靶ZBO、砷化镓靶GaAs，磷化镓靶GaP，硒化锌靶、锰酸锂靶、镍钴酸锂靶、钽酸锂靶，铌酸锂靶、等… 

稀土属靶：镧靶、铈靶、镨靶、钕靶、钐靶、铕靶、钆靶、铽靶、镝靶、钬靶、铒靶、铥靶、镱靶、镥靶、钇靶等… 

稀土氧化物靶：氧化镧靶、氧化铈靶、氧化镨靶、氧化钐靶、氧化铕靶、氧化钕靶、氧化钆靶、氧化铽靶、氧化镝靶、氧化钬靶、氧化铒靶、氧化铥靶、氧化镱靶、氧化镥靶 

属膜阻器用Ni-Cr-Si/ Ni-Cr-Mn-Cu溅射靶材：

属膜阻器用靶材括阻系列（ZYG）、中阻系列（ZYZ）和低阻系列（ZYC）、超低阻系列（ZYCD）。

2．纯光学镀膜材料（99.99％——99.999％）

氧化物：一氧化硅、二氧化硅、一氧化钛、二氧化钛、三氧化二钛、五氧化三钛、二氧化锆、二氧化铪、二氧化铈、二钛酸镨、三氧化钨、五氧化二钽、五氧化二铌、三氧化二钪、三氧化二铝、三氧化二铟、氧化镱、氧化锌、氧化镁、氧化钆、氧化钐、氧化钕、氧化钙、氧化镨、氧化铋、氧化铬、氧化镍、氧化铜、氧化铁、氧化钒等… 

氟化物：氟化镁、氟化钙、氟化钕、氟化镧、氟化镱、氟化钇、氟化铒、氟化钐、氟化镝、氟化铈、氟化钡、氟化锶、氟化钾、氟化钠等… 

硫化物：硫化锌、硫化钼、硫化钙、硫化锑、硫化铁、硫化钠等…

物以稀为贵。钌、铑、钯、锇、铱、铂6个元素在地壳中的含量都非常少。除了铂在地壳中的含量为亿分之五、钯在地壳中的含量为亿分之一外，钌、铑、锇、铱4个元素在地壳中的含量都只有十亿分之一。又由于它们多分散于各种矿石之中，很少形成大的聚集，所以价格昂贵。这6个元素在化学称作铂族元素，加已经介绍过的银和，就是我们常说的贵属。

纯Pd钯靶材厂家：钯靶、钯粒、钯片、钯粉

纯度：3N 、3N5、4N

规格：钯靶（平面圆靶，方靶，旋转靶，台阶靶均可加工，规格户要求定做）

      钯粒（不规则颗粒1-5mm,10*10*1mm片状，其他规格定做）

      钯片（10*10*1mm,根据户要求定做）

      钯粉（根据户要求定做）

纯Ir铱：铱靶、铱粒、铱片、铱粉

纯度：3N 、3N5、4N、4N5

规格：铱靶（平面圆靶，方靶，旋转靶，台阶靶均可加工，规格户要求定做）    铱粒（规格Φ2*5mm,Φ2*10mm，其他规格定做）

      铱片（根据户要求定做）

          铱粉（根据户要求定做）T18937853784(不是联系方式)

纯铂：铂靶、铂粒、铂丝、铂极、铂片、铂粉

纯度：3N 、3N5、4N、4N5、5N

规格：铂靶（平面圆靶，方靶，旋转靶，台阶靶均可加工，规格户要求定做）    铂粒（规格Φ2*5mm,Φ2*10mm，其他规格定做）

      铂丝（Φ0.2mm、Φ0.3mm、Φ0.5mm、Φ1mm其他规格定做）

      铂片（根据户要求定做）

       铂粉（根据户要求定做）

纯Ru钌：钌靶、钌粒、钌块、钌片、钌粉

纯度：3N 、3N5、4N、4N5

规格：钌靶（平面圆靶，方靶，旋转靶，台阶靶均可加工，规格户要求定做）    钌块（不规则块状，块状大可根据户要求）

          钌粉（根据户要求定做）

纯Rh铑：铑靶、铑粒、铑块、铑粉

纯度：3N 、3N5、4N

规格：铑靶（平面圆靶，方靶，旋转靶，台阶靶均可加工，规格户要求定做）    铑块（不规则块状，块状大可根据户要求）

          铑粉（根据户要求定做）

靶材的主要能要求:

纯度

纯度是靶材的主要能指标之一，因为靶材的纯度对薄膜的能影响很大。不过在实际应用中，对靶材的纯度要求也不尽相同。例如，随着子行业的迅速展，硅片尺寸由6”, 8“展到12”, 而布线宽度由0.5um减到0.25um,0.18um甚至0.13um，以前99.995%的靶材纯度可以满足0.35umIC的工艺要求，而制备0.18um线条对靶材纯度则要求99.999%甚至99.9999%。

杂质含量

靶材固体中的杂质和气孔中的氧气和水气是沉积薄膜的主要污染源。不同用途的靶材对不同杂质含量的要求也不同。例如，半导体工业用的纯铝及铝合靶材，对碱属含量和放射元素含量都有特殊要求。

氧化锆陶瓷        

溅射靶材          

黄靶材    

工业陶瓷       

靶材厂家      

靶材          

氧化锆陶瓷棒      

机械陶瓷配件  

子枪灯丝         

【原创内容】
属钼作为背靶材料。不锈钢管(SST)–目前最常使用不锈钢管作为旋转靶材的背管，因为不锈钢管有良好的强度和导热而且非常经济二、背靶重复使用大部分背靶可以重复使用，尤物覆盖面积加。在一定功率的况下，参与化合物生成的反应气体量加，化合物生成率加。如果反应气体量加过度，化合物覆盖面积加，如果不能及时调整反应气体流量，的保护手套，{jd1}避用手直接接触靶材二、靶材清洁靶材清洁的目的是去除靶材表面可能存在的灰尘或污垢。属靶材可以通过四步清洁，{dy}步用在中浸泡过的无绒软布清洁；能重复使用。当我们收到用户提供的已使用过的背靶后，我们会首先进行卸靶处理（如适用）并且对背靶进行xx检查，检查的重点括背靶的平整度，完整及密封等。我们会通知第二步与{dy}步类似用酒精清洁；第三步用去离子水清洗。在用去离子水清洗过后再将靶材放置在烘箱中以100摄氏度烘干30分钟。氧化物及陶瓷靶材的清洗建洁用“无绒布”进行物覆盖面积加。在一定功率的况下，参与化合物生成的反应气体量加，化合物生成率加。如果反应气体量加过度，化合物覆盖面积加，如果不能及时调整反应气体流量，物覆盖面积加。在一定功率的况下，参与化合物生成的反应气体量加，化合物生成率加。如果反应气体量加过度，化合物覆盖面积加，如果不能及时调整反应气体流量，需要进行温帖合的条件下，无氧化铜容易被氧化和生翘曲,所以会使用属钼为背靶材料或某些靶材如陶瓷甚至某些属靶材的热膨胀系数无法与无氧铜匹配，同样也需要使用