鼎伟钛镍靶TiNi

东莞市鼎伟靶材有限公司是专业生产纯属材料，蒸镀膜材料以及溅射靶材的技术企业应用的科技型民营股份制工贸有限公司。公司以青岛大学和青岛科技大学蒸材料专业为技术依托，拥有多名中级专业技术人员和专业化应用实验室，有很强的蒸材料能力。公司先后研的蒸材料、溅射靶材系列产品广泛应用到国内外众多知名子、太阳能企业当中，以较的价比，成功替代了国外进口产品，颇受用户好评。

鼎伟钛镍靶TiNi

公司主要经营产品： 

一、真空镀膜材料 

1．纯真空溅射靶材（99.9％——99.999％）

纯属靶材：锆靶Zr、铬靶Cr、钛靶Ti、铝靶Al、锡靶Sn、钒靶V、锑靶Sb、铟靶、硼靶B、钨靶W、锰靶Mn、铋靶Bi、铜靶Cu、石墨靶C、硅靶 Si、钽靶 Ta、锌靶Zn、镁靶Mg、铌靶Nb、钼靶Mo、钴靶Co、铁靶Fe、锗靶Ge、铪靶Hf、铅靶Pb、镍靶Ni、银靶Ag、硒靶Se、铍靶Be、碲靶Te、不锈钢靶材S.S等……

多元合靶材： 钛铝靶Ti-Al、钛锆靶Ti-Zr、钛硅靶Ti-Si、钛镍靶Ti-Ni、镍铬靶Ni-Gr、镍铝靶Ni-Al、镍钒靶Ni-V、镍铁靶Ni-Fe、铁钴靶Fe-Co、铝硅靶Al-Si、钛硅靶Ti-Si、铬硅靶Cr-Si、锌铝靶Zn-Al、钛锌靶材Ti-Zn、铝硅铜靶Al-Si-Cu等……

陶瓷溅射靶材：ITO靶、单晶硅靶、多晶硅靶、一氧化硅靶SiO、二氧化硅靶SiO2、二氧化钛靶TiO2、氧化锆靶ZrO2、二硼化钛靶TiB2、氧化镁靶MgO、碳化硼靶BC、氮化硼靶BN、碳化硅靶SiC、三氧化二钇靶Y2O3、五氧化二钒靶V2O5、氧化锌靶ZnO、硫化锌靶ZnS、硫化钼靶MoS、硫化钨靶WS、氧化锌铝靶ZAO、氧化铝靶Al2O3、钛酸锶靶SrTiO3、五氧化二钽靶Ta2O5、五氧化二铌靶Nb2O5、氧化锌镓靶ZGO、氧化锌硼靶ZBO、砷化镓靶GaAs，磷化镓靶GaP，硒化锌靶、锰酸锂靶、镍钴酸锂靶、钽酸锂靶，铌酸锂靶、等… 

稀土属靶：镧靶、铈靶、镨靶、钕靶、钐靶、铕靶、钆靶、铽靶、镝靶、钬靶、铒靶、铥靶、镱靶、镥靶、钇靶等… 

稀土氧化物靶：氧化镧靶、氧化铈靶、氧化镨靶、氧化钐靶、氧化铕靶、氧化钕靶、氧化钆靶、氧化铽靶、氧化镝靶、氧化钬靶、氧化铒靶、氧化铥靶、氧化镱靶、氧化镥靶 

属膜阻器用Ni-Cr-Si/ Ni-Cr-Mn-Cu溅射靶材：

属膜阻器用靶材括阻系列（ZYG）、中阻系列（ZYZ）和低阻系列（ZYC）、超低阻系列（ZYCD）。

2．纯光学镀膜材料（99.99％——99.999％）

氧化物：一氧化硅、二氧化硅、一氧化钛、二氧化钛、三氧化二钛、五氧化三钛、二氧化锆、二氧化铪、二氧化铈、二钛酸镨、三氧化钨、五氧化二钽、五氧化二铌、三氧化二钪、三氧化二铝、三氧化二铟、氧化镱、氧化锌、氧化镁、氧化钆、氧化钐、氧化钕、氧化钙、氧化镨、氧化铋、氧化铬、氧化镍、氧化铜、氧化铁、氧化钒等… 

氟化物：氟化镁、氟化钙、氟化钕、氟化镧、氟化镱、氟化钇、氟化铒、氟化T18919837845(不是联系方式)钐、氟化镝、氟化铈、氟化钡、氟化锶、氟化钾、氟化钠等… 

硫化物：硫化锌、硫化钼、硫化钙、硫化锑、硫化铁、硫化钠等…

　真空镀膜加工设备首要用于在经予处理的塑料、陶瓷等成品外表蒸镀属薄膜（镀铝、铬、锡、不锈钢等属）、七彩薄膜等，然后取得亮光、漂亮、；价廉的塑料，陶瓷外表属化成品。广泛使用于汽车、托车灯、工艺美术、装潢装修、灯、家私、玩、酒瓶盖、化妆品、手机、闹钟、女式鞋后跟等范畴。

【原创内容】
的保护手套，{jd1}避用手直接接触靶材二、靶材清洁靶材清洁的目的是去除靶材表面可能存在的灰尘或污垢。属靶材可以通过四步清洁，{dy}步用在中浸泡过的无绒软布清洁；气体(氩气或氧气)必须清洁并干燥，溅镀腔内装入基材后便需将空气抽出，达到工艺所要求的真空度。暗区屏蔽罩，腔体壁及邻近表面也需要保持洁净。在清洗真空腔体时我们建议采用户对背靶的检查结果，如我们现有需要维修的地方会书面通知户并提供维修报价。影响靶材中的因素主要是反应气体和溅射气体的比例，反应气体过量就会导致靶中。反应是无氧铜，因为无氧铜有良好的导和导热，而且比较容易机械加工。如果保养适当，无氧铜背靶可以重复使用10次甚至更多。钼(Mo)–在某些使用条件比较特殊的况下，如用。靶材进行预溅射时建议慢慢加大溅射功率，陶瓷类靶材的功率加大速率建议为1.5W时/平方厘米。属类靶材的预溅射速度可以比陶瓷靶材块，一个合理的功率加大速率为要确保在靶材和溅射枪冷却壁之间建立很好的导热连接。如果用冷却壁的翘曲程度严重或背板翘曲严重会造成靶材安装时生裂或弯曲，背靶到靶材的导热能就会受到很大的影响，导致在溅射过程中热量无法散最终会造成靶材裂或脱靶为确保足够的导热，可以在阴极冷却壁与靶材之间加垫一层石墨纸。请意一定要仔细检查和明确所使用溅射枪冷却壁的用。靶材进行预溅射时建议慢慢加大溅射功率，陶瓷类靶材的功率加大速率建议为1.5W时/平方厘米。属类靶材的预溅射速度可以比陶瓷靶材块，一个合理的功率加大速率为