※产品特点※
1、 走位能力强,适用于形状复杂工件的镀铬
2、 工作温度范围较宽,38-50℃均可正常工作;
3、 阴极电流效率高,沉积速度快,可采用较高的电镀密度操作;
4、 镀液对工件活化能力强,不易发花;
5、 对杂质容忍度高,工艺稳定,容易控制。
※镀液组成和工艺条件※
铬 酐 铬酐/硫酸 铬酐/三价铬 |
150–250g/L 150-250 :1 100-150 :1 |
220g/L 200 :1 100 -150 :1 |
铬走位剂 |
8–12ml/L |
10ml/L |
温 度 镀液波美度 阴极电流密度
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38 – 50 ℃ 19 – 23 10 – 20 安培/平方分米
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42 -45 ℃ 19 – 23 15 安培/平方分米
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※设备要求※
1、 整流器: 要保证足够的容量,波纹系数 < 5% ; 否则会影响深镀能力;
2、 阳极应采用铅锡合金或铅锑合金,阴极和阳极面积比为 1 比2-3;
※镀液配制方法※
1、 在清洗过的镀槽内加入三分之二的蒸馏水或去离子水,并加热到40℃;
2、 将计算量的铬酐缓慢加入槽内,搅拌使其全部溶解;
3、 将铬走位剂加入镀液内,再将水量调至工作液面,并搅拌均匀;
4、,分析溶液中硫酸含量,再根据溶液中铬酐和硫酸的比例,补加硫酸;
5、 采用大阴极、小阳极面积电解处理槽液,以产生所需量的三价铬,也可添加双氧水或洒精,但要十分小心;
6、 试镀工件,观察溶液的覆盖能力和镀层的亮度,若符合要求即可投入生产
※添加剂的作用※
铬走位剂 它是混合型的催化剂,可显著提高低电位区的覆盖能力,还可提高电镀的沉积速度;