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真空镀膜加工_不锈钢真空镀膜_真空镀膜技术

在真空中制备膜层，真空镀膜bao括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。真空镀膜虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段，但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空镀膜有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。

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本技术主要采用电弧-溅射技术，利用阴阳极之间的放电离化氩气，使氩离子在作为阴极的靶材电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶原子，PVD电镀中性的靶原子或离子沉积在基片上，形成固体薄膜。本项目在上述原理的基础上进行改进和新技术开发，采用改进的电弧-溅射技术提高靶功率密度，采用等离子体源增强技术提高镀膜室的等离子体密度，从而开发出环保、{gx}的快速PVD电镀镀铬新技术。

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靶材可制作成各种形状，协作机台的格外方案做非常好的操控及最有功率的出产 真空磁控溅射镀膜运用高压电场做发生等离子镀膜物质，运用几乎悉数高熔点金属，合金和金属氧化物，如：铬，钼，钨，钛，银，金等。而且，它是一个强行堆积的进程，选用这种技能取得的真空电镀层与塑胶基材附着力远远高于真空磁控溅射镀膜法.不过加工成本相对较高。

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