三门峡超净间、朗洁万达净化厂房、超净间 无尘室

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    珠海朗洁万达科技有限公司

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    实验台柜

    1、主框架柜体:采用1.0mm厚冷轧钢板,通过剪切、折弯、焊接、冲压、打磨一系列工艺精致而成,表面经除油、酸洗、磷化作防锈处理,再静电粉沫喷涂EPOXY防护层做耐酸碱耐腐蚀表面处理,其喷涂EPOXY防护层附着力经落物撞击试验测试合格;门抽面采用具有人性化设计的30°斜面;后端设置可拆卸用于维修的活动板;框架静态承重﹥300公斤;框架结构合理,灵活多变,稳定性强,可按客户需求进行多种组合。

      2、台面: a、理化贴面板采用25mm厚的国产优质环保型中纤板为基材,表面粘压耐酸碱的进口0.9mm厚Chemsurf理化板,台面四周断面经国产优质2.0mm厚PVC封边防水处理,外表美观、光滑。b、实心理化板采用12.7mm进口实心理化板,四周边缘加厚至25.4mm,边缘做圆角磨边处理,符合人体工学设计,具有耐酸碱、耐腐蚀、耐冲击、韧性强等特点。c、千思板采用13mm厚荷兰进口TRESPA实验室台面板,四周边缘加厚至26mm,边缘做圆角磨边处理,符合人体工学设计,具有抗撞击、耐酸碱、耐腐蚀、耐刻刮、易清洁、抗紫外线、防静电等特点。d、环氧树脂板由环氧树脂、石英砂、固化剂和颜料一次性压模而成,抗高温、24小时防腐蚀,防潮、可修复,越是在极端恶劣的实验条件下,越是表现出众。

      3、门合叶:采用不锈钢板式2.5吋专用合叶,不锈钢厚度2.0MM。

      4、抽屉导轨:托底式自动自闭导轨,表面经黑色EPOXY静电粉未喷涂,耐腐蚀、伸缩自如、承重力强,抽屉可以全部向外拉出,方便存取物品。

      5、抠手:采用铝合金材料,内嵌式抠手,表面环氧树脂粉沫喷涂。

      6、可调地脚:专业模具组合式结构;可调螺丝为M12*50mm不锈钢,尼龙罩盖为注塑模具一次成型,内嵌橡胶模垫,可承重、防潮、防滑、减震、抑菌、耐腐蚀、高低可调节台体水平;外形美观大方,设计人性化。


    GMP净化车间参观走廊的主要功能是人物流通道

     很多人对GMP净化车间不是很了解,举个很简单的例子,很多人家里有空气净化器可以使家里空气环境变好。对于企业的生产车间来说,同样是一个很重要的地方,也需要有好的环境生产高质量的产品。GMP净化车间http:///article_1806.html设计中要有好的设备,操作设备与建筑物之间的安全距离都应该要虑。设备布置应虑为操作工人管理多台设备或多种设备创造条件,不宜过紧或过松,应尽量对称紧凑,排列整齐,充分利用空间。设备的自动监测仪表都要集中控制,阀门控制应尽量集中,便于工人操作。设备能顺利进出净化车间的要求。


     虑GMP净化车间设备的检修和拆卸以及运送物料所需的起重运输设备;凡笨重设备或运转时会产生剧烈振动的设备,应尽可能布置在厂房的底层,以减少厂房楼面的负荷。且剧烈振动的设备,其造作台基础不得与建筑物的柱、墙连在一起,以免影响建筑物的安全。设备布置要避开建筑物的柱子和主梁。厂房内所有操作台必须统一虑,避免平台支柱零乱重复,影响车间美观、生产操作及检修。


    电子工厂高级别洁净厂房的建造特点

    1 电子工厂生产工艺对受控环境的要求

    电子工厂如大规模集成电路(LSI)、超大规模集成电路(VLSI)等微电子(IC)工厂;液晶显示器(LCD)、彩色薄膜液晶显示器(TFT-LCD)、等离子显示器(PDP)以及发光二极管(LED)、有机电致发光显示器(OLED)、高分子有机电致发光显示器(PLED)等光电子工厂都离不开洁净的生产环境。生产所要求的环境不仅仅有:建筑围护、结构、空气、水以及气体、溶剂等原材料,而且还有声、光、电、磁、振等各种环境。例如:建筑的形式和层高、结构的承重、围护结构的装修材料;环境空气的洁净度、温湿度、静压力;水和气体的纯度和粒子、重金属的含量以及环境的噪声、照度、静电、电磁屏蔽、微振等等。总的来说,电子工厂生产工艺对环境的要求可用大、净、精、纯、严五个字来形容。

    ·大:生产工艺要求洁净室的面积越来越大。就拿彩色薄膜液晶显示器(TFT-LCD)生产用洁净室的面积来说,5TFT生产用洁净室的面积约28000m2;6TFT洁净室的面积约40000m2;到了8TFT生产用单间洁净室的面积就大到80000m2以上。洁净室内可停放20多架波音747飞机。

    ·净:电子工厂,尤其是微电子(IC)前工序和光电子(TFT-LCD)前工序的洁净室对环境洁净度的要求越来越净。例如,12时园片超大规模集成电路前工序光刻间的洁净度要求高达1级(0.1um)也就是每立方英尺空气中≥O.1um的粒子数不能超过1颗。相当于ISO1级。

    ·精:电子工厂生产工艺对环境空气温、湿度的控制精度要求越来越精。还以上述微电子的光刻间为例:其温度精度为士0.1℃,相对湿度的精度为士3%。

    ·纯:大规模集成电路前工序对生产用的高纯水、高纯气体以及高纯溶剂的纯度要求越来越纯。例如:对高纯水而言,不仅对其电阻率有要求,而且对高纯水中所含粒子、重金属以及其他元素的离子成份都有严格的要求,随着生产工艺的发展,对其纯度的要求也越来越高。可谓纯之又纯。

    ·严:电子工业生产不仅对环境的洁净度,温、湿度有严格的要求,同时对环境的声(噪声)、光(照度)、电(静电)、磁(电磁场屏蔽)、振(微振)等都有严格的要求。尤其微电子生产,对环境的分子级污染提出了新的严格的要求。分子污染是指环境空气中要严格控制例如钠(Na)元素、碳(COx)元素、硫(SOx)元素、(NOx)元素等对半导体工艺有害的元素。因此在处理空气时还要用淋水(淋自来水、淋纯净水)来吸收室外空气中的有害分子成份和用化学过滤器来吸附新风中的有害分子成份。

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