三段c(曲线cd段):多孔层增厚。阳极氧化约20s后,电压进入比较平稳而缓慢的上升阶段。表明无孔层在不断地被溶解形成多孔层的同时,新的无孔层又在生长,也就是说氧化膜中无孔层的生成速度与溶解速度基本上达到了平衡,故无孔层的厚度不再增加,电压变化也很小。
二段b(曲线bc段):多孔层形成。随着氧化膜的生成,电解液对膜的溶解作用也就开始了。由于生成的氧化膜并不均匀,在膜薄的地方将首先被溶解出空穴来,电解液就可以通过这些空穴到达铝的新鲜表面,电化学反应得以继续进行,电阻减小,电压随之下降(下降幅度为高值的10~15%),膜上出现多孔层。
①配方1,2适用于纯铝,铝镁合金,铝锰合金和铝硅合金的化学氧化。膜层颜色为金黄色,但后二种合金上得到的氧化膜颜色较暗。碱性氧化液中得到的膜层较软,耐蚀性较差,孔隙率较高,吸附性好,适于作为涂装底层。②配方3中加入硅酸钠,获得的氧化膜为无色,硬度及耐蚀性略高,孔隙率及吸附性略低,在硅酸钠的质量分数为2%的溶液中封闭处理后可单独作为防护层用,适合于含重金属铝合金氧化用。