小型真空等离子清洗机

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    小型真空等离子清洗机

    等离子体清洗的机理,主要是依靠等离子体中活性粒子的"活化作用"达到去除物体表面污渍的目的。等离子体清洗通常包括以下过程:无机气体被激发为等离子态;气相物质被吸附在固体表面;被吸附基团与固体表面分子反应生成产物分子;产物分子解析形成气相;反应残余物脱离表面。等离子体清洗技术的特点是不分处理对象的基材类型,均可进行处理,对金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料,可实现整体和局部以及复杂结构的清洗。



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    小型真空等离子清洗机

    供电电源

    AC220V(AC110V可选)

    工作电流

    整机工作电流不大于3.5A(不含真空泵)

    射频电源功率

    150W

    射频频率

    13.56MHz

    频率偏移量

    <0.2MHz

    特性阻抗

    50欧姆,手动匹配

    耦合方式

    电容耦合

    真空度

    ≤100Pa

    腔体材质

    高纯石英

    腔体容积

    2L(内径110MMX深度220MM)

    观察窗内径

    Φ65

    气体流量

    10—100ml/min(其他量程可选)

    过程控制

    过程手动控制

    清洗时间

    手动开关

    开盖方式

    铰链侧开式法兰

    外形尺寸

    400x380x360mm

    重量

    23Kg

    真空室温度

    小于65°C

    冷却方式

    强制风冷

    标配

    KF16真空管1米,kf16卡箍2个,不锈钢网匣1个,电源线一根,说明书一本。




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