等离子体清洗的机理

等离子体清洗的机理，主要是依靠等离子体中活性粒子的“活化作用"达到去除物体表面污渍的目的。等离子体清洗通常包括以下过程：无机气体被激发为等离子态；气相物质被吸附在固体表面；被吸附基团与固体表面分子反应生成产物分子；产物分子解析形成气相；反应残余物脱离表面。

*改变某些材料表面的性能。

  *使玻璃、塑料、陶瓷等材料表面活化，加强这些材料的粘附性、相容性和浸润性。

  *金属材料表面的氧化层。

  *对被清洗物进行、

优点：

    具有性能稳定，，操作简便，使用成本低，易于维护的特点。对各种几何形状，表面粗糙程度各异的金属，陶瓷，玻璃，硅片，塑料等物件表面进行超清洗和改性，彻底地样品表面的有机染物。

   定时处理、快速处理、清洗效率高。                             

   绿色环保，不使用化学溶剂，对产品和环境无二次污染

  在常温条件下进行超清洗，对样品非破坏性处理。