一、应用范围概述：
电解电容器生产用纯水;
电子管生产用纯水;
显像管和阴极射线管生产用纯水;
黑白显像管荧光屏生产用纯水;
液晶显示器的生产用纯水;
晶体管生产用纯水;
集成电路生产用纯水 ;
电子新材料生产用纯水;
二、典型工艺流程
预处理系统－反渗透系统－ 中间水箱－粗混合床－精混合床－纯水箱－纯水泵－紫外线xx器－抛光混床－精密过滤器－用水对象 （≥18MΩ.CM）（传统工艺）
预处理－反渗透－中间水箱－水泵－EDI装置－纯化水箱－纯水泵－紫外线xx器－抛光混床－0.2或0.5µm精密过滤器－用水对象（≥18MΩ.CM） （{zx1}工艺）
预处理－一级反渗透－加药机（PH调节）－中间水箱－第二级反渗透（正电荷反渗膜）－纯水箱－纯水泵－EDI装置－紫外线xx器－0.2或0.5µm精密过滤器－用水对象 （≥17MΩ.CM）
（{zx1}工艺）
预处理－反渗透－中间水箱－水泵－EDI装置－纯水箱－纯水泵－紫外线xx器－0.2或0.5µm精密过滤器－用水对象 （≥15MΩ.CM） （{zx1}工艺）
预处理系统－反渗透系统－ 中间水箱－纯水泵－粗混合床－精混合床－紫外线xx器－精密过滤器－用水对象 （≥15MΩ.CM） （传统工艺）
三设备特点、
为满足用户需要，达到符合标准的水质，尽可能地减少各级的污染，延长设备的使用寿命、降低操作人员的维护工作量.在工艺设计上，取达国家自来水标准的水为源水，再设有介质过滤器，活性碳过滤器，钠离子软化器、精密过滤器等预处理系统、RO反渗透主机系统、离子交换混床（EDI电除盐系统）系统等。
系统中水箱均设有液位控制系统、水泵均设有压力保护装置、在
