伯东 KRI  RFICP220 技术参数:

* 可选: 灯丝中和器; 可变长度的增量

结果表明:

偏压显著影响直流磁控沉积的 MoN 薄膜的晶相结构、表面形貌、断面结构、硬度和摩擦磨损性能;随脉冲偏压的增大, MoN 薄膜的膜厚、硬度都先增大后减小, 而薄膜的磨损率却先减小后增大, 其中 -500 V 脉冲偏压下沉积的 MoN 薄膜具有硬度为 7731 N/mm~2, 以及低的磨损率为 5.8×10~(-7)mm~3/(N·m).  此外, MoN 薄膜在不同载荷和转速的摩擦条件下表现出不同的摩擦学行为.
 

KRI 的独特功能实现了更好的性能, 增强的可靠性和新颖的材料工艺. KRI 已经获得了理想的薄膜和表面特性, 而这些特性在不使用 KRI 技术的情况下是无法实现的.

因此, 该研究项目才采用 KRI 考夫曼射频离子源 RFCIP220 辅助溅射沉积工艺.

伯东是德国  ,  ,  ,  ,  美国  ,  美国HVA 真空阀门,  美国  ,  美国 Ambrell 和日本 NS 等进口品牌的指定代理商.

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