KRI 聚焦型射频离子源 RFICP 380用于制备超薄 TEM 样品

普通传统的制样减薄方法存在远端的薄区极易弯曲和薄区厚度不均匀的问题, 因此某机构采用伯东KRI 聚焦型射频离子源 RFICP 380 通过交叉减薄的方法制备超薄 TEM 样品.

 

交叉减薄

交叉减薄的过程利用 TEM 样品台的旋转来完成, 如下图.

TEM 样品台模型图

 

 

伯东 KRI 聚焦型射频 RFICP 380 技术参数:

射频型号

RFICP 380

Discharge 阳极

射频 RFICP

离子束流

>1500 mA

离子动能

100-1200 V

栅极直径

30 cm Φ

离子束

聚焦

流量

15-50 sccm

通气

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

典型压力

< 0.5m Torr

长度

39 cm

直径

59 cm

中和器

LFN 2000

 

推荐理由:

使用 KRI 聚焦型射频 RFICP 380 可以准确、灵活地对样品选定的区域进行刻蚀、沉积和减薄.

 

运行结果:

1. 通过利用 KRI 聚焦型射频 RFICP 380 和样品台交叉减薄得到的薄区非常均匀, 边缘整齐. 相比较传统减薄方法, 交叉减薄避免了样品在倾斜52°和56°减薄时出现的边缘收缩问题和远端薄区弯曲问题.

2. 对于复合材料大大降低了位于两相界面处薄区的厚度, 提高了样品质量, 提高了制样的成功率和效率.

 

 

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