1、研磨后的清洗

  

研磨是光学玻璃生产中决定其加工效率和表面质量（外观和精度）的重要工序。研磨工序中的主要污染物为研磨粉和沥青，

少数企业的加工过程中会有漆片。其中研磨粉的型号各异，一般是以二氧化铈为主的碱金属氧化物。根据镜片的材质及研磨精

度不同，选择不同型号的研磨粉。在研磨过程中使用的沥青是起保护作用的，以防止抛光完的镜面被划伤或腐蚀。研磨后的清

洗设备大致分为两种：

 

一种主要使用有机溶剂清洗剂，另一种主要使用半水基清洗剂。

  

 一、有机溶剂清洗采用的清洗流程如下

:  有机溶剂清洗剂（超声波）

  水基清洗剂（超声波）

-

市水漂洗

-

纯水漂洗

-IPA

（异丙醇）脱水

-IPA

慢拉干燥。

  

 

 

有机溶剂清洗剂的主要用途是清洗沥青及漆片。

以前的溶剂清洗剂多采用xxxx或三氯乙烯。

由于xxxx属

ODS

（消耗

臭氧层物质）产品，目前处于强制淘汰阶段；而长期使用三氯乙烯易导致职业病，而且由于三氯乙烯很不稳定，容易水解呈酸

性，因此会腐蚀镜片及设备。对此，国内的清洗剂厂家研制生产了非

ODS

溶剂型系列清洗剂，可用于清洗光学玻璃；并且该系

列产品具备不同的物化指标，可有效满足不同设备及工艺条件的要求。比如在少数企业的生产过程中，镜片表面有一层很难处

理的漆片，要求使用具备特殊溶解性的有机溶剂；部分企业的清洗设备的溶剂清洗槽冷凝管较少，自由程很短，要求使用挥发

较慢的有机溶剂；另一部分企业则相反，要求使用挥发较快的有机溶剂等。

  

 

 

水基清洗剂的主要用途是清洗研磨粉。由于研磨粉是碱金属氧化物，溶剂对其清洗能力很弱，所以镜片加工过程中产生的

研磨粉基本上是在水基清洗单元内除去的，故而对水基清洗剂提出了极高的要求。以前由于国内的光学玻璃专用水基清洗剂品

种较少，很多外资企业都选用进口的清洗剂。而目前国内已有公司开发出光学玻璃清洗剂，并成功地应用在国内数家大型光学

玻璃生产厂，清洗效果xx可以取代进口产品，在腐蚀性（防腐性能）等指标上更是优于进口产品。

  

 

 

对于

IPA

慢拉干燥，需要说明的一点是，某些种类的镜片干燥后容易产生水印，这种现象一方面与

IPA

的纯度及空气湿度

有关，另一方面与清洗设备有较大的关系，尤其是双臂干燥的效果明显不如单臂干燥的好，需要设备厂家及用户注意此点。

  

 

 

二、半水基清洗采用的清洗流程如下

:  

 

 

半水基清洗剂（超声波）

-

市水漂洗

-

水基清洗剂

-

市水漂洗

-

纯水漂洗

-IPA

脱水

-IPA

慢拉干燥

  

 

 

此种清洗工艺同溶剂清洗相比{zd0}的区别在于，其前两个清洗单元：有机溶剂清洗只对沥青或漆片具有良好的清洗效果，

但却无法清洗研磨粉等无机物；半水基清洗剂则不同，不但可以清洗沥青等有机污染物，还对研磨粉等无机物有良好的清洗效

果，从而大大减轻了后续清洗单元中水基清洗剂的清洗压力。半水基清洗剂的特点是挥发速度很慢，气味小。采用半水基清洗