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新闻资讯伯东企业（上海）有限公司

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全部资讯 涡轮分子泵 KRI 离子源 氦质谱检漏仪
HVA 真空阀门用在气体管路系统
2023/5/12
HVA 真空阀门应用于E-Beam 镀膜机
2023/5/12
HVA 真空阀门成功应用于粒子加速器系统
2023/5/12
伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220 用于修正高精度 CGH 基底
2023/5/4
伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 用于清洗继电器
2023/5/4
伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 辅助溅射沉积制备锂硫电池正极片
2023/5/4
伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP 380 辅助溅射镀制 Al2O3 薄膜
2023/5/4
KRI 考夫曼聚焦射频离子源 RFCIP220辅助溅射制备 GdF3光学薄膜
2023/5/4
KRI RFICP325 离子源已成功应用在塑料光学镜头应用
2023/5/4
KRI 考夫曼聚焦射频离子源 RFICP380 辅助制备原子探针样品
2023/5/4
KRI 考夫曼射频离子源 RFCIP220 辅助溅射制备 LaF3 薄膜
2023/5/4
KRI 考夫曼射频离子源 RFCIP380 溅射镀制 TC4 表面 TiN 涂层
2023/4/27
KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 溅射制备 MnGe 量子点
2023/4/27
KRI 考夫曼射频离子源 RFCIP220 制备高性能光通信带通滤光膜
2023/4/27
伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 溅射制备 VO2 薄膜
2023/4/27
KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 应用于 AlTiN 涂层研究
2023/4/27
KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220 溅射制备堵片传感器薄膜
2023/4/27
KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 溅射制备类金刚石 Ta-C 涂层
2023/4/27
KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 辅助磁控溅射沉积 Cu-W 膜
2023/4/25
KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 用于铝表面溅射沉积 ZrN 薄膜
2023/4/25
KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220 用于溅射沉积硅片金属薄膜
2023/4/25
KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 成功用于复合磁控溅射沉积装置
2023/4/25
KRI 考夫曼射频离子源 RFCIP220 溅射沉积红外器件介质膜
2023/4/25
KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 溅射沉积 NSN70 隔热膜
2023/4/25
KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220 溅射沉积制备碳薄膜
2023/4/25
KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 溅射沉积 BCx 薄膜
2023/4/25
KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 镀制气体传感器 WO3 薄膜
2023/4/19
KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220 溅射沉积纳米纯 Ti 薄膜
2023/4/19
KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220 溅射沉积 MoN 薄膜
2023/4/19
KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 成功用于多靶磁控溅射镀膜机
2023/4/19
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