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全部资讯 涡轮分子泵 KRI 离子源 氦质谱检漏仪
KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220 溅射沉积钛金属薄膜
2023/4/19
KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 镀制红外器件 ZnS 薄膜
2023/4/19
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2023/4/14
KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220 溅射沉积 ZnNi 合金薄膜
2023/4/14
KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 制备 IFBA 芯块 ZrB2 涂层
2023/4/14
KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 制备 NGZO 薄膜
2023/4/14
KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220 制备富硅SiNx薄膜
2023/4/14
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2023/4/7
KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 溅射沉积 NSN70 隔热膜
2023/4/7
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2023/4/7
KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220 制备 YIG 薄膜
2023/4/7
KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 溅射沉积铝锰合金薄膜
2023/4/7
KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220 辅助溅射沉积 MnZn 铁氧体薄膜
2023/4/4
KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 辅助磁控溅射制 TiSiN-Ag 薄膜
2023/4/4
KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220 溅射沉积 Ir 膜
2023/4/4
KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 溅射沉积 Ti-B-C 薄膜
2023/4/4
KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220 溅射沉积 ZrAlN 薄膜
2023/4/4
KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 溅射制备微晶硅薄膜
2023/4/4
KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 溅射沉积立方氮化硼薄膜
2023/4/4
KRi 大面积射频离子源应用于 12英寸,8英寸 IBE 离子束蚀刻系统
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KRi 离子源 e-beam 电子束蒸发系统辅助镀膜应用
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2023/1/31
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