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KRI 霍尔 eH 3000
上海伯东代理美国原装进口 KRI eH 3000 适合大型真空系统, 与友厂大功率离子源对比, eH 3000 是目前市场上, 提供更高离子束流的离子源.
尺寸: 直径= 9.7“ 高= 6”
放电电压 / 电流: 50-300V / 20A
操作气体: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有机前体
KRI 霍尔 eH 3000 特性
• 水冷 - 加速冷却
• 可拆卸阳极组件 - 易于维护; 维护时,大限度地减少停机时间; 即插即用备用阳极
• 宽波束高放电电流 - 高电流密度; 均匀的蚀刻率; 刻蚀效率高; 高离子辅助镀膜 IAD 效率
• 多用途 - 适用于 Load lock / 超高真空系统; 安装方便
• 等离子转换和稳定的功率控制
KRI 霍尔 eH 3000 技术参数
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型号
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eH3000 / eH3000L / eH3000M / eH3000LE
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供电
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DC magnetic confinement
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- 电压
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50-250V VDC
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- 离子源直径
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~ 7 cm
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- 阳极结构
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模块化
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电源控制
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eHx-25020A
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配置
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-
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- 阴极中和器
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Filament, Sidewinder Filament or Hollow Cathode
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- 离子束发散角度
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> 45° (hwhm)
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- 阳极
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标准或 Grooved
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- 水冷
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前板水冷
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- 底座
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移动或快接法兰
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- 高度
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4.0'
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- 直径
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5.7'
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- 加工材料
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金属
电介质
半导体
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- 工艺气体
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Ar, Xe, Kr, O2, N2, Organic Precursors
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- 安装距离
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16-45”
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- 自动控制
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控制4种气体
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* 可选: 可调角度的支架;
KRI 霍尔 eH 3000 应用领域
溅镀和蒸发镀膜 PC
辅助镀膜 ( 光学镀膜 ) IBAD
表面改性, 激SM
直接沉积 DD
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产, 和. 美国历经 40 年改良及发展已取得多项专利. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国中国总代理.
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