最小起订量：1 计量单位：个 产品单价：1.00 供货总量：223434
东莞市鼎伟靶材有限公司是专业生产纯属材料，蒸镀膜材料以及溅射靶材的技术企业应用的科技型民营股份制工贸有限公司。公司以青岛大学和青岛科技大学蒸材料专业为技术依托，拥有多名中级专业技术人员和专业化应用实验室，有很强的蒸材料能力。公司先后研的蒸材料、溅射靶材系列产品广泛应用到国内外众多知名子、太阳能企业当中，以较的价比，成功替代了国外进口产品，颇受用户好评。
Pd钯靶材
东莞市鼎伟靶材有限公司
联系人：肖先生
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话：0769-88039551
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地址：东莞市南城区民间融大厦
公司主要经营产品：
一、真空镀膜材料
1．纯真空溅射靶材（99.9％——99.999％）
纯属靶材：锆靶Zr、铬靶Cr、钛靶Ti、铝靶Al、锡靶Sn、钒靶V、锑靶Sb、铟靶、硼靶B、钨靶W、锰靶Mn、铋靶Bi、铜靶Cu、石墨靶C、硅靶 Si、钽靶 Ta、锌靶Zn、镁靶Mg、铌靶Nb、钼靶Mo、钴靶Co、铁靶Fe、锗靶Ge、铪靶Hf、铅靶Pb、镍靶Ni、银靶Ag、硒靶Se、铍靶Be、碲靶Te、不锈钢靶材S.S等……
多元合靶材： 钛铝靶Ti-Al、钛锆靶Ti-Zr、钛硅靶Ti-Si、钛镍靶Ti-Ni、镍铬靶Ni-Gr、镍铝靶Ni-Al、镍钒靶Ni-V、镍铁靶Ni-Fe、铁钴靶Fe-Co、铝硅靶Al-Si、钛硅靶Ti-Si、铬硅靶Cr-Si、锌铝靶Zn-Al、钛锌靶材Ti-Zn、铝硅铜靶Al-Si-Cu等……
陶瓷溅射靶材：ITO靶、单晶硅靶、多晶硅靶、一氧化硅靶SiO、二氧化硅靶SiO2、二氧化钛靶TiO2、氧化锆靶ZrO2、二硼化钛靶TiB2、氧化镁靶MgO、碳化硼靶BC、氮化硼靶BN、碳化硅靶SiC、三氧化二钇靶Y2O3、五氧化二钒靶V2O5、氧化锌靶ZnO、硫化锌靶ZnS、硫化钼靶MoS、硫化钨靶WS、氧化锌铝靶ZAO、氧化铝靶Al2O3、钛酸锶靶SrTiO3、五氧化二钽靶Ta2O5、五氧化二铌靶Nb2O5、氧化锌镓靶ZGO、氧化锌硼靶ZBO、砷化镓靶GaAs，磷化镓靶GaP，硒化锌靶、锰酸锂靶、镍钴酸锂靶、钽酸锂靶，铌酸锂靶、等…
稀土属靶：镧靶、铈靶、镨靶、钕靶、钐靶、铕靶、钆靶、铽靶、镝靶、钬靶、铒靶、铥靶、镱靶、镥靶、钇靶等…
稀土氧化物靶：氧化镧靶、氧化铈靶、氧化镨靶、氧化钐靶、氧化铕靶、氧化钕靶、氧化钆靶、氧化铽靶、氧化镝靶、氧化钬靶、氧化铒靶、氧化铥靶、氧化镱靶、氧化镥靶
属膜阻器用Ni-Cr-Si/ Ni-Cr-Mn-Cu溅射靶材：
属膜阻器用靶材括阻系列（ZYG）、中阻系列（ZYZ）和低阻系列（ZYC）、超低阻系列（ZYCD）。
2．纯光学镀膜材料（99.99％——99.999％）
氧化物：一氧化硅、二氧化硅、一氧化钛、二氧化钛、三氧化二钛、五氧化三钛、二氧化锆、二氧化铪、二氧化铈、二钛酸镨、三氧化钨、五氧化二钽、五氧化二铌、三氧化二钪、三氧化二铝、三氧化二铟、氧化镱、氧化锌、氧化镁、氧化钆、氧化钐、氧化钕、氧化钙、氧化镨、氧化铋、氧化铬、氧化镍、氧化铜、氧化铁、氧化钒等…
氟化物：氟化镁、氟化钙、氟化钕、氟化镧、氟化镱、氟化钇、氟化铒、氟化钐、氟化镝、氟化铈、氟化钡、氟化锶、氟化钾、氟化钠等…
硫化物：硫化锌、硫化钼、硫化钙、硫化锑、硫化铁、硫化钠等…
物以稀为贵。钌、铑、钯、锇、铱、铂6个元素在地壳中的含量都非常少。除了铂在地壳中的含量为亿分之五、钯在地壳中的含量为亿分之一外，钌、铑、锇、铱4个元素在地壳中的含量都只有十亿分之一。又由于它们多分散于各种矿石之中，很少形成大的聚集，所以价格昂贵。这6个元素在化学称作铂族元素，加已经介绍过的银和，就是我们常说的贵属。
纯Pd钯靶材厂家：钯靶、钯粒、钯片、钯粉
纯度：3N 、3N5、4N
规格：钯靶（平面圆靶，方靶，旋转靶，台阶靶均可加工，规格户要求定做）
钯粒（不规则颗粒1-5mm,10*10*1mm片状，其他规格定做）
钯片（10*10*1mm,根据户要求定做）
钯粉（根据户要求定做）
纯Ir铱：铱靶、铱粒、铱片、铱粉
纯度：3N 、3N5、4N、4N5
规格：铱靶（平面圆靶，方靶，旋转靶，台阶靶均可加工，规格户要求定做） 铱粒（规格Φ2*5mm,Φ2*10mm，其他规格定做）
铱片（根据户要求定做）
铱粉（根据户要求定做）T18937853784(不是联系方式)
纯铂：铂靶、铂粒、铂丝、铂极、铂片、铂粉
纯度：3N 、3N5、4N、4N5、5N
规格：铂靶（平面圆靶，方靶，旋转靶，台阶靶均可加工，规格户要求定做） 铂粒（规格Φ2*5mm,Φ2*10mm，其他规格定做）
铂丝（Φ0.2mm、Φ0.3mm、Φ0.5mm、Φ1mm其他规格定做）
铂片（根据户要求定做）
铂粉（根据户要求定做）
纯Ru钌：钌靶、钌粒、钌块、钌片、钌粉
纯度：3N 、3N5、4N、4N5
规格：钌靶（平面圆靶，方靶，旋转靶，台阶靶均可加工，规格户要求定做） 钌块（不规则块状，块状大可根据户要求）
钌粉（根据户要求定做）
纯Rh铑：铑靶、铑粒、铑块、铑粉
纯度：3N 、3N5、4N
规格：铑靶（平面圆靶，方靶，旋转靶，台阶靶均可加工，规格户要求定做） 铑块（不规则块状，块状大可根据户要求）
铑粉（根据户要求定做）
靶材的分类方法很多。根据材料的种类，靶材括属及合靶材、无机非属靶材和复合靶材等。无机非属靶材又分为氧化物、硅化物、氮化物和氟化物等不同种类。根据不同的几何形状，靶材分为长（正）方体形靶材、圆柱体形靶材和不规则形状靶材。此外，靶材还可分为实心和空心!种类型。常规的长（正）方体形和圆柱体形磁控溅射靶为实心的，是以圆环形永磁体在靶材表面建立环形磁场，在轴间等距离的环形表面形成刻蚀区，因而影响沉积薄膜厚度的均匀，而且靶材的利用率仅为!"30%
氧化锆陶瓷
溅射靶材
黄靶材
工业陶瓷
靶材厂家
靶材
氧化锆陶瓷棒
机械陶瓷配件
子枪灯丝
【原创内容】
溅射工艺进行过程中靶表面溅射沟道区域内出现被反应生成物覆盖或反应生成物被剥离而重暴露属表面此消彼长的过程。如果化合物的生成速率大于化合物被剥离的速率，化合化合物覆盖面积加的速率得不到抑制，溅射沟道将进一步被化合物覆盖，当溅射靶被化合物全部覆盖的时候，靶xx中一、背靶材料无氧铜(OFC)–目前最常使用的作背靶的材料物覆盖面积加。在一定功率的况下，参与化合物生成的反应气体量加，化合物生成率加。如果反应气体量加过度，化合物覆盖面积加，如果不能及时调整反应气体流量，直接影响真空度获得和加成膜失败的可能。短路或靶材起弧，成膜表面粗糙及化学杂质含量超标经常是由于不洁净的溅射室、溅射枪和靶材引起的。为保持镀膜的成分特，溅射用。靶材进行预溅射时建议慢慢加大溅射功率，陶瓷类靶材的功率加大速率建议为1.5W时/平方厘米。属类靶材的预溅射速度可以比陶瓷靶材块，一个合理的功率加大速率为用。靶材进行预溅射时建议慢慢加大溅射功率，陶瓷类靶材的功率加大速率建议为1.5W时/平方厘米。属类靶材的预溅射速度可以比陶瓷靶材块，一个合理的功率加大速率为其是采用属铟进行帖合的比较容易进行清洁和重使用。如果是采用其他帖合剂（括环氧树脂）则可能需要采用机械处理的方式对背靶表面处理后才能重复使用。当我们收到用户用户对背靶的检查结果，如我们现有需要维修的地方会书面通知户并提供维修报价。影响靶材中的因素主要是反应气体和溅射气体的比例，反应气体过量就会导致靶中。反应