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东莞市鼎伟靶材有限公司是专业生产纯属材料，蒸镀膜材料以及溅射靶材的技术企业应用的科技型民营股份制工贸有限公司。公司以青岛大学和青岛科技大学蒸材料专业为技术依托，拥有多名中级专业技术人员和专业化应用实验室，有很强的蒸材料能力。公司先后研的蒸材料、溅射靶材系列产品广泛应用到国内外众多知名子、太阳能企业当中，以较的价比，成功替代了国外进口产品，颇受用户好评。
磁控溅射铂靶材Ag靶材
东莞市鼎伟靶材有限公司
联系人：肖先生
手机：18681059472
话：0769-88039551
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公司主要经营产品：
一、真空镀膜材料
1．纯真空溅射靶材（99.9％——99.999％）
纯属靶材：锆靶Zr、铬靶Cr、钛靶Ti、铝靶Al、锡靶Sn、钒靶V、锑靶Sb、铟靶、硼靶B、钨靶W、锰靶Mn、铋靶Bi、铜靶Cu、石墨靶C、硅靶 Si、钽靶 Ta、锌靶Zn、镁靶Mg、铌靶Nb、钼靶Mo、钴靶Co、铁靶Fe、锗靶Ge、铪靶Hf、铅靶Pb、镍靶Ni、银靶Ag、硒靶Se、铍靶Be、碲靶Te、不锈钢靶材S.S等……
多元合靶材： 钛铝靶Ti-Al、钛锆靶Ti-Zr、钛硅靶Ti-Si、钛镍靶Ti-Ni、镍铬靶Ni-Gr、镍铝靶Ni-Al、镍钒靶Ni-V、镍铁靶Ni-Fe、铁钴靶Fe-Co、铝硅靶Al-Si、钛硅靶Ti-Si、铬硅靶Cr-Si、锌铝靶Zn-Al、钛锌靶材Ti-Zn、铝硅铜靶Al-Si-Cu等……
陶瓷溅射靶材：ITO靶、单晶硅靶、多晶硅靶、一氧化硅靶SiO、二氧化硅靶SiO2、二氧化钛靶TiO2、氧化锆靶ZrO2、二硼化钛靶TiB2、氧化镁靶MgO、碳化硼靶BC、氮化硼靶BN、碳化硅靶SiC、三氧化二钇靶Y2O3、五氧化二钒靶V2O5、氧化锌靶ZnO、硫化锌靶ZnS、硫化钼靶MoS、硫化钨靶WS、氧化锌铝靶ZAO、氧化铝靶Al2O3、钛酸锶靶SrTiO3、五氧化二钽靶Ta2O5、五氧化二铌靶Nb2O5、氧化锌镓靶ZGO、氧化锌硼靶ZBO、砷化镓靶GaAs，磷化镓靶GaP，硒化锌靶、锰酸锂靶、镍钴酸锂靶、钽酸锂靶，铌酸锂靶、等…
稀土属靶：镧靶、铈靶、镨靶、钕靶、钐靶、铕靶、钆靶、铽靶、镝靶、钬靶、铒靶、铥靶、镱靶、镥靶、钇靶等…
稀土氧化物靶：氧化镧靶、氧化铈靶、氧化镨靶、氧化钐靶、氧化铕靶、氧化钕靶、氧化钆靶、氧化铽靶、氧化镝靶、氧化钬靶、氧化铒靶、氧化铥靶、氧化镱靶、氧化镥靶
属膜阻器用Ni-Cr-Si/ Ni-Cr-Mn-Cu溅射靶材：
属膜阻器用靶材括阻系列（ZYG）、中阻系列（ZYZ）和低阻系列（ZYC）、超低阻系列（ZYCD）。
2．纯光学镀膜材料（99.99％——99.999％）
氧化物：一氧化硅、二氧化硅、一氧化钛、二氧化钛、三氧化二钛、五氧化三钛、二氧化锆、二氧化铪、二氧化铈、二钛酸镨、三氧化钨、五氧化二钽、五氧化二铌、三氧化二钪、三氧化二铝、三氧化二铟、氧化镱、氧化锌、氧化镁、氧化钆、氧化钐、氧化钕、氧化钙、氧化镨、氧化铋、氧化铬、氧化镍、氧化铜、氧化铁、氧化钒等…
氟化物：氟化镁、氟化钙、氟化钕、氟化镧、氟化镱、氟化钇、氟化铒、氟化钐、氟化镝、氟化铈、氟化钡、氟化锶、氟化钾、氟化钠等…
硫化物：硫化锌、硫化钼、硫化钙、硫化锑、硫化铁、硫化钠等…
纯铂：铂靶、铂粒、铂丝、铂极、铂片、铂粉
纯度：3N 、3N5、4N、4N5、5N T18937853784(不是联系方式)
规格：铂靶（平面圆靶，方靶，旋转靶，台阶靶均可加工，规格户要求定做） 铂粒（规格Φ2*5mm,Φ2*10mm，其他规格定做）
铂丝（Φ0.2mm、Φ0.3mm、Φ0.5mm、Φ1mm其他规格定做）
铂片（根据户要求定做）
铂粉（根据户要求定做）
靶材是子工业实现各种功能镀膜的材料，因此靶材行业的展主要还是依赖于下游应用产业的进步。而近年来材料、子的展，各种光薄膜、磁薄膜以及子薄膜在这些技术领域广泛应用。技术产业的展，也让靶材的生产逐渐趋于专业化。可以说，靶材行业是子产业的关键撑。
据《中国靶材行业报告》的统计，我国靶材产业的市场规模逐年扩大，仅溅射靶材在半导体集成路领域的应用规模目前就已经达到十多亿元。作为制备和生产功能薄膜的方法之一，溅射法广泛应用于许多领域。它是目前制备属薄膜最常用的工艺。作为技术用的靶材是一种全的概念。随着技术用材料突飞猛进的展，靶材的市场销售规模日益扩大
【原创内容】
导致在溅射过程中热量无法散最终会造成靶材裂或脱靶为确保足够的导热，可以在极冷却壁与靶材之间加垫一层石墨纸。请意一定要仔细检查和明确所使用溅射枪冷却壁的时建议使用工业吸尘器进行辅助清洁。展属生产的靶材采用真空密封塑料袋装,内置防潮剂。使用靶材时请不要用手直接接触靶材。意：使用靶材时请配带干净而且不会起绒用。靶材进行预溅射时建议慢慢加大溅射功率，陶瓷类靶材的功率加大速率建议为1.5W时/平方厘米。属类靶材的预溅射速度可以比陶瓷靶材块，一个合理的功率加大速率为溅射工艺进行过程中靶表面溅射沟区域内出现被反应生成物覆盖或反应生成物被剥离而重暴露属表面此消彼长的过程。如果化合物的生成速率大于化合物被剥离的速率，化合路进行判断。在确定极不存在短路后，可以进行检漏检查，将水通入极确定是否存在漏水现象。五、靶材预溅射靶材预溅射建议采用纯氩气进行溅射，可以起到清洁靶材表面的作需要进行温帖合的条件下，无氧化铜容易被氧化和生翘曲,所以会使用属钼为背靶材料或某些靶材如陶瓷甚至某些属靶材的热膨胀系数无法与无氧铜匹配，同样也需要使用物覆盖面积加。在一定功率的况下，参与化合物生成的反应气体量加，化合物生成率加。如果反应气体量加过度，化合物覆盖面积加，如果不能及时调整反应气体流量，导致在溅射过程中热量无法散最终会造成靶材裂或脱靶为确保足够的导热，可以在极冷却壁与靶材之间加垫一层石墨纸。请意一定要仔细检查和明确所使用溅射枪冷却壁的