最小起订量：1 计量单位：个 产品单价：1.00 供货总量：223434
东莞市鼎伟靶材有限公司是专业生产纯属材料，蒸镀膜材料以及溅射靶材的技术企业应用的科技型民营股份制工贸有限公司。公司以青岛大学和青岛科技大学蒸材料专业为技术依托，拥有多名中级专业技术人员和专业化应用实验室，有很强的蒸材料能力。公司先后研的蒸材料、溅射靶材系列产品广泛应用到国内外众多知名子、太阳能企业当中，以较的价比，成功替代了国外进口产品，颇受用户好评。
旧黄靶材回收，AU靶材
东莞市鼎伟靶材有限公司
联系人：肖先生
手机：18681059472
话：0769-88039551
网站：
邮箱：
地址：东莞市南城区民间融大厦
公司主要经营产品：
一、真空镀膜材料
1．纯真空溅射靶材（99.9％——99.999％）
纯属靶材：锆靶Zr、铬靶Cr、钛靶Ti、铝靶Al、锡靶Sn、钒靶V、锑靶Sb、铟靶、硼靶B、钨靶W、锰靶Mn、铋靶Bi、铜靶Cu、石墨靶C、硅靶 Si、钽靶 Ta、锌靶Zn、镁靶Mg、铌靶Nb、钼靶Mo、钴靶Co、铁靶Fe、锗靶Ge、铪靶Hf、铅靶Pb、镍靶Ni、银靶Ag、硒靶Se、铍靶Be、碲靶Te、不锈钢靶材S.S等……
多元合靶材： 钛铝靶Ti-Al、钛锆靶Ti-Zr、钛硅靶Ti-Si、钛镍靶Ti-Ni、镍铬靶Ni-Gr、镍铝靶Ni-Al、镍钒靶Ni-V、镍铁靶Ni-Fe、铁钴靶Fe-Co、铝硅靶Al-Si、钛硅靶Ti-Si、铬硅靶Cr-Si、锌铝靶Zn-Al、钛锌靶材Ti-Zn、铝硅铜靶Al-Si-Cu等……
陶瓷溅射靶材：ITO靶、单晶硅靶、多晶硅靶、一氧化硅靶SiO、二氧化硅靶SiO2、二氧化钛靶TiO2、氧化锆靶ZrO2、二硼化钛靶TiB2、氧化镁靶MgO、碳化硼靶BC、氮化硼靶BN、碳化硅靶SiC、三氧化二钇靶Y2O3、五氧化二钒靶V2O5、氧化锌靶ZnO、硫化锌靶ZnS、硫化钼靶MoS、硫化钨靶WS、氧化锌铝靶ZAO、氧化铝靶Al2O3、钛酸锶靶SrTiO3、五氧化二钽靶Ta2O5、五氧化二铌靶Nb2O5、氧化锌镓靶ZGO、氧化锌硼靶ZBO、砷化镓靶GaAs，磷化镓靶GaP，硒化锌靶、锰酸锂靶、镍钴酸锂靶、钽酸锂靶，铌酸锂靶、等…
稀土属靶：镧靶、铈靶、镨靶、钕靶、钐靶、铕靶、钆靶、铽靶、镝靶、钬靶、铒靶、铥靶、镱靶、镥靶、钇靶等…
稀土氧化物靶：氧化镧靶、氧化铈靶、氧化镨靶、氧化钐靶、氧化铕靶、氧化钕靶、氧化钆靶、氧化铽靶、氧化镝靶、氧化钬靶、氧化铒靶、氧化铥靶、氧化镱靶、氧化镥靶
属膜阻器用Ni-Cr-Si/ Ni-Cr-Mn-Cu溅射靶材：
属膜阻器用靶材括阻系列（ZYG）、中阻系列（ZYZ）和低阻系列（ZYC）、超低阻系列（ZYCD）。
2．纯光学镀膜材料（99.99％——99.999％）
氧化物：一氧化硅、二氧化硅、一氧化钛、二氧化钛、三氧化二钛、五氧化三钛、二氧化锆、二氧化铪、二氧化铈、二钛酸镨、三氧化钨、五氧化二钽、五氧化二铌、三氧化二钪、三氧化二铝、三氧化二铟、氧化镱、氧化锌、氧化镁、氧化钆、氧化钐、氧化钕、氧化钙、氧化镨、氧化铋、氧化铬、氧化镍、氧化铜、氧化铁、氧化钒等…
氟化物：氟化镁、氟化钙、氟化钕、氟化镧、氟化镱、氟化钇、氟化铒、氟化钐、氟化镝、氟化铈、氟化钡、氟化锶、氟化钾、氟化钠等…
硫化物：硫化锌、硫化钼、硫化钙、硫化锑、硫化铁、硫化钠等…
贵属：、银、铂、钌、铑、钯、锇、铱
纯：靶、粒、丝、极、片、粉
纯度：3N 、3N5、4N、4N5、5NT18937326747(不是联系方式)
规格：靶（平面圆靶，方靶，旋转靶，台阶靶均可加工，规格户要求定做） 粒（规格Φ2*5mm,Φ2*10mm，其他规格定做）
丝（Φ0.2mm、Φ0.3mm、Φ0.5mm、Φ1mm其他规格定做）
片（根据户要求定做）
粉（根据户要求定做）
靶材的主要能要求:
纯度
纯度是靶材的主要能指标之一，因为靶材的纯度对薄膜的能影响很大。不过在实际应用中，对靶材的纯度要求也不尽相同。例如，随着子行业的迅速展，硅片尺寸由6”, 8“展到12”, 而布线宽度由0.5um减到0.25um,0.18um甚至0.13um，以前99.995%的靶材纯度可以满足0.35umIC的工艺要求，而制备0.18um线条对靶材纯度则要求99.999%甚至99.9999%。
杂质含量
靶材固体中的杂质和气孔中的氧气和水气是沉积薄膜的主要污染源。不同用途的靶材对不同杂质含量的要求也不同。例如，半导体工业用的纯铝及铝合靶材，对碱属含量和放射元素含量都有特殊要求。
【原创内容】
第二步与{dy}步类似用酒精清洁；第三步用去离子水清洗。在用去离子水清洗过后再将靶材放置在烘箱中以100摄氏度烘干30分钟。氧化物及陶瓷靶材的清洗建洁用“无绒布”进行溅射工艺进行过程中靶表面溅射沟区域内出现被反应生成物覆盖或反应生成物被剥离而重暴露属表面此消彼长的过程。如果化合物的生成速率大于化合物被剥离的速率，化合直接影响真空度获得和加成膜失败的可能。短路或靶材起弧，成膜表面粗糙及化学杂质含量超标经常是由于不洁净的溅射室、溅射枪和靶材引起的。为保持镀膜的成分特，溅射清洁。第四步在xx完有污垢的区域后，再用压低水气的氩气冲洗靶材，以除去所有可能在溅射系统中会造成起弧的杂质粒三、靶材安装靶材安装过程中最重要的意事项是一定用户对背靶的检查结果，如我们现有需要维修的地方会书面通知户并提供维修报价。影响靶材中的因素主要是反应气体和溅射气体的比例，反应气体过量就会导致靶中。反应要确保在靶材和溅射枪冷却壁之间建立很好的导热连接。如果用冷却壁的翘曲程度严重或背板翘曲严重会造成靶材安装时生裂或弯曲，背靶到靶材的导热能就会受到很大的影响，清洁。第四步在xx完有污垢的区域后，再用压低水气的氩气冲洗靶材，以除去所有可能在溅射系统中会造成起弧的杂质粒三、靶材安装靶材安装过程中最重要的意事项是一定是无氧铜，因为无氧铜有良好的导和导热，而且比较容易机械加工。如果保养适当，无氧铜背靶可以重复使用10次甚至更多。钼(Mo)–在某些使用条件比较特殊的况下，如