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东莞市鼎伟靶材有限公司是专业生产纯属材料,蒸镀膜材料以及溅射靶材的技术企业应用的科技型民营股份制工贸有限公司。公司以青岛大学和青岛科技大学蒸材料专业为技术依托,拥有多名中级专业技术人员和专业化应用实验室,有很强的蒸材料能力。公司先后研的蒸材料、溅射靶材系列产品广泛应用到国内外众多知名子、太阳能企业当中,以较的价比,成功替代了国外进口产品,颇受用户好评。
鼎伟镍钒靶NiV
东莞市鼎伟靶材有限公司
联系人:肖先生
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公司主要经营产品:
一、真空镀膜材料
1.纯真空溅射靶材(99.9%——99.999%)
纯属靶材:锆靶Zr、铬靶Cr、钛靶Ti、铝靶Al、锡靶Sn、钒靶V、锑靶Sb、铟靶、硼靶B、钨靶W、锰靶Mn、铋靶Bi、铜靶Cu、石墨靶C、硅靶 Si、钽靶 Ta、锌靶Zn、镁靶Mg、铌靶Nb、钼靶Mo、钴靶Co、铁靶Fe、锗靶Ge、铪靶Hf、铅靶Pb、镍靶Ni、银靶Ag、硒靶Se、铍靶Be、碲靶Te、不锈钢靶材S.S等……
多元合靶材: 钛铝靶Ti-Al、钛锆靶Ti-Zr、钛硅靶Ti-Si、钛镍靶Ti-Ni、镍铬靶Ni-Gr、镍铝靶Ni-Al、镍钒靶Ni-V、镍铁靶Ni-Fe、铁钴靶Fe-Co、铝硅靶Al-Si、钛硅靶Ti-Si、铬硅靶Cr-Si、锌铝靶Zn-Al、钛锌靶材Ti-Zn、铝硅铜靶Al-Si-Cu等……
陶瓷溅射靶材:ITO靶、单晶硅靶、多晶硅靶、一氧化硅靶SiO、二氧化硅靶SiO2、二氧化钛靶TiO2、氧化锆靶ZrO2、二硼化钛靶TiB2、氧化镁靶MgO、碳化硼靶BC、氮化硼靶BN、碳化硅靶SiC、三氧化二钇靶Y2O3、五氧化二钒靶V2O5、氧化锌靶ZnO、硫化锌靶ZnS、硫化钼靶MoS、硫化钨靶WS、氧化锌铝靶ZAO、氧化铝靶Al2O3、钛酸锶靶SrTiO3、五氧化二钽靶Ta2O5、五氧化二铌靶Nb2O5、氧化锌镓靶ZGO、氧化锌硼靶ZBO、砷化镓靶GaAs,磷化镓靶GaP,硒化锌靶、锰酸锂靶、镍钴酸锂靶、钽酸锂靶,铌酸锂靶、等…
稀土属靶:镧靶、铈靶、镨靶、钕靶、钐靶、铕靶、钆靶、铽靶、镝靶、钬靶、铒靶、铥靶、镱靶、镥靶、钇靶等…
稀土氧化物靶:氧化镧靶、氧化铈靶、氧化镨靶、氧化钐靶、氧化铕靶、氧化钕靶、氧化钆靶、氧化铽靶、氧化镝靶、氧化钬靶、氧化铒靶、氧化铥靶、氧化镱靶、氧化镥靶
属膜阻器用Ni-Cr-Si/ Ni-Cr-Mn-Cu溅射靶材:
属膜阻器用靶材括阻系列(ZYG)、中阻系列(ZYZ)和低阻系列(ZYC)、超低阻系列(ZYCD)。
2.纯光学镀膜材料(99.99%——99.999%)
氧化物:一氧化硅、二氧化硅、一氧化钛、二氧化钛、三氧化二钛、五氧化三钛、二氧化锆、二氧化铪、二氧化铈、二钛酸镨、三氧化钨、五氧化二钽、五氧化二铌、三氧化二钪、三氧化二铝、三氧化二铟、氧化镱、氧化锌、氧化镁、氧化钆、氧化钐、氧化钕、氧化钙、氧化镨、氧化铋、氧化铬、氧化镍、氧化铜、氧化铁、氧化钒等…
氟化物:氟化镁、氟化钙、氟化钕、氟化镧、氟化镱、氟化钇、氟化铒、氟化T18919837845(不是联系方式)钐、氟化镝、氟化铈、氟化钡、氟化锶、氟化钾、氟化钠等…
硫化物:硫化锌、硫化钼、硫化钙、硫化锑、硫化铁、硫化钠等…
温下不应与蒸资料生化学反应。温下某些蒸源材料,3化学能稳定。与蒸资料之间会产生反应及扩散而形成化合物和合。特别是形成低共熔点合蒸源容易烧断。例如在温时钽和会形成合形成挥的氧化物如铝、铁、镍、钴也会与钨、钼、钽等蒸源资料形成合。钨还能与水或氧生反应。应选择不会与镀膜资料生反应或形成合的材WOWO2或WO3;钼也能与水或氧反应而形成挥MoO3等。因此。料做该材料的蒸源材料。
作为蒸源的资料必需备熔点、挥低、温冷却后脆等质。常用的线状蒸源应能与蒸属熔点远远大于待镀属的蒸温度,相润湿。不与待镀属生反应生成合
【原创内容】
要确保在靶材和溅射枪冷却壁之间建立很好的导热连接。如果用冷却壁的翘曲程度严重或背板翘曲严重会造成靶材安装时生裂或弯曲,背靶到靶材的导热能就会受到很大的影响,用玻璃球抛丸法处理有污垢的部件同时用压缩空气xx腔体四周前期溅射剩余物,再用氧化铝浸渍过的沙纸轻轻的对表面进行抛光。纱纸抛光后,再用酒精,和去离子水清洗,同需要进行温帖合的条件下,无氧化铜容易被氧化和生翘曲,所以会使用属钼为背靶材料或某些靶材如陶瓷甚至某些属靶材的热膨胀系数无法与无氧铜匹配,同样也需要使用用户对背靶的检查结果,如我们现有需要维修的地方会书面通知户并提供维修报价。影响靶材中的因素主要是反应气体和溅射气体的比例,反应气体过量就会导致靶中。反应用玻璃球抛丸法处理有污垢的部件同时用压缩空气xx腔体四周前期溅射剩余物,再用氧化铝浸渍过的沙纸轻轻的对表面进行抛光。纱纸抛光后,再用酒精,和去离子水清洗,同属钼作为背靶材料。不锈钢管(SST)–目前最常使用不锈钢管作为旋转靶材的背管,因为不锈钢管有良好的强度和导热而且非常经济二、背靶重复使用大部分背靶可以重复使用,尤物覆盖面积加。在一定功率的况下,参与化合物生成的反应气体量加,化合物生成率加。如果反应气体量加过度,化合物覆盖面积加,如果不能及时调整反应气体流量,
大部分背靶可以重复使用,尤其是采用属铟进行帖合的比较容易进行清洁和重使用。如果是采用其他帖合剂(括环氧树脂)则可能需要采用机械处理的方式对背靶表面处理后才